纯水的测量与监控

半导体制造过程中需要使用大量的纯水进行清洗晶圆、冲洗电子元件、蚀刻等操作，在纯水处理过程中，常常需要精确地测量液体流量，如在反渗透(RO)过程中，需测量浓缩液的流速，以控制浓缩比及防止膜结垢，通过持续监测水的流速，也可监控RO设备的性能，及时发现可能的故障或异常；在去离子交换（DI）过程，会使用离子交换树脂去除水中的离子，此时需要监测流经树脂的水流速、反洗液体流经树脂的速度的流速，以确保确保树脂得到充分的接触时间，以有效去除离子。另外，在纯水制程的化学添加阶段也需精准控制药剂用量，如测量消毒剂（氯、二氧化氯、臭氧等）用量，确保水中微生物的去除作业，或是pH 调节剂用量，以确保水质稳定性。由此可见，纯水处理作业对于液体流速测量，以及测量工具的耐化学性，有相应严苛使用标准。

| 在去离子交换(DI)过程反渗透(RO)过程，监测液体的流速可以确保纯水品质，监控设备性能

实际案例：中国台湾晶圆代工大厂

情况：该厂为专业之水处理系统规划设计之工程公司，业务范围包括超纯水系统、废水回收、废水处理工程等，在纯水处理的阶段，因为纯水不导电，无法使用常见的电磁式流量计，该公司欲选择超声波流量计，但是市面上常见的超声波流量计安装及设定步骤困难繁琐，且需要定期补充超声波膏，使用体验不佳，并且在纯水处理阶段的作业中，该公司也需要选择能够精确测量液体的微小流量，并具备良好耐化学性的测量工具。

解决方案：LORRIC的超声波流量计