半导体冷却水系统分为厂务端一级冷却（FCW）和设备端二级冷却（PCW），后者使用去离子水或超纯水，通过精密温控单元（TCU/Chiller）将温度控制在极窄范围内。超声波流量计凭借非接触、无污染、不停机安装的特性，在这一系统中承担着从故障诊断到能效管理的多重角色。场景一：TCU出口总流量监测与故障诊断TCU是半导体设备冷却系统的核心，出口总流量是计算热交换功率的关键参数（Q=c×m×ΔT）。流量计实时监测TCU输出流量，配合温度传感器计算热交换功率，流量异常时触发告警。真实案...

半导体制造是当今工业中温控要求最严苛的领域之一。光刻、刻蚀、薄膜沉积、CMP抛光，几乎每道关键工艺都伴随大量热量产生，需要冷却水系统持续带走热量，将工艺温度控制在极窄范围内。两级冷却水架构半导体工厂的冷却水系统通常分为两级：一级冷却（FCW）：厂务端循环水系统，使用自来水或工业水，通过大型冷水机组降温后，经保温管路输送至各工艺设备。二级冷却（PCW）：设备端高纯冷却回路，使用去离子水（DIWater）或超纯水（UPW），通过精密温控单元（TCU/Chiller）将温度控制在极...

SONOTEC：超声波非接触测量的技术头部德国SONOTECGmbH总部位于哈雷，走在全球非接触式超声波液体流量测量和气泡检测领域的技术前列。公司通过ISO9001和ENISO13485双重质量管理体系认证，产品覆盖医疗技术、生物技术和半导体三大高要求行业。在半导体行业，SONOTEC的非接触式传感器已在多家国际晶圆厂的湿法工艺设备中成功应用，涵盖CMP、晶圆清洗、光刻、化学品供应等关键工序。SONOTEC面向半导体行业的核心产品有三款：产品类型核心功能SEMIFLOW&re...

一、CMP工艺为什么对流量测量如此"挑剔"？化学机械平坦化（CMP）是半导体制造中的关键工序，其作用是利用化学腐蚀与机械研磨的协同作用，去除晶圆表面多余的材料，实现全局平坦化。CMP工艺的核心要素有三个：研磨浆料（Slurry）、抛光垫（PolishingPad）和晶圆载具（WaferCarrier）。其中，浆料的精准输送与流量控制直接决定了平坦化的均匀性和去除速率。CMP工艺对流量测量的"挑剔"体现在以下几个方面：1.浆料特性复杂CMP浆料是一种含有纳米级固体颗粒（如SiO...

为什么生物医药行业需要"气泡+流量"一体化监测？在生物医药和医疗设备领域，液体流量的精确计量和气泡的及时检测是两个同等重要且不可分割的安全要求：制药灌装与配液在无菌灌装线上，灌装泵输送药液时的流量精度直接决定每瓶药液的装量准确性。同时，管路中混入的气泡会导致灌装量不足或瓶内气泡超标，影响产品质量和患者用药安全。《中国药典》和FDAGuidance对注射剂灌装装量有明确要求，装量差异必须控制在允许范围内，而气泡是导致装量偏差的主要因素之一。生物反应器与上下游工艺在制药、疫苗等生...

在半导体制造、化工和工业过程控制中，气体质量流量计（MFC）经常需要接触腐蚀性或反应性气体，如刻蚀工艺中的氯气（Cl₂）、溴化氢（HBr）、三氯化硼（BCl₃），以及薄膜沉积中使用的前驱体气体等。流量计的耐腐蚀性能直接关系到测量精度、设备寿命和工艺安全。当前主流的热式气体质量流量计分为MEMS（微机电系统）芯片级热式和毛细管旁路热式两种技术路线。两者在测量原理和性能指标上各有特点，但在耐腐蚀性方面存在结构性差异，这些差异源于传感元件的材料构成、气体接触方式和标定方法的根本不同...