北光仪表走进合肥重光电子，赋能半导体湿法设备升级

昨日，北光仪表工程师走进合肥重光电子科技有限公司，围绕半导体实验室级匀胶、显影等核心光刻湿法设备的流体测控需求，展开深度技术对接与方案交流。

在半导体制程中，光刻工艺直接影响芯片制造的精度水平，而匀胶与显影作为光刻流程中前后衔接的两大核心湿法工序，流体控制的稳定性是保障工艺良率与参数一致性的关键因素。尤其是科研级实验设备，对工艺参数的可重复性要求严苛，光刻胶滴注、边胶清洗、显影液输送等环节的流量偏差，都会直接影响最终实验结果与工艺表现。

一、匀胶与显影工序的核心痛点：流量稳定是工艺一致性的前提

1. 匀胶工序：成膜质量高度依赖流量管控

匀胶是光刻流程的开篇工序，胶层厚度、均匀性与粘附性，是后续显影、曝光环节顺利推进的基础，多个细分环节都对流体控制精度有较高要求：

• 滴胶输送环节：光刻胶的滴胶量与输送稳定性直接关联成膜质量。流量不足会导致衬底局部缺胶，流量波动则会造成片间胶厚差异；光刻胶粘度越高，对输送流量的控制精度要求越高，微小偏差都可能引发边缘胶层堆积、成膜均匀性失效等问题。

• 边胶清洗环节：针对匀胶后边缘过厚的光刻胶，通常采用 PGMEA 等溶剂进行喷射清洗。溶剂流量不稳定，要么会造成边胶残留影响后续工艺，要么会过度侵蚀晶圆有效区域，降低工艺良率。

2. 显影工序：线宽精度受流量波动直接影响

显影是将曝光后的光刻图形进行显现的核心环节，显影液的流量控制直接决定图形的最终呈现效果：

• 显影液的输送流量稳定性、喷淋均匀性，会直接影响显影反应的充分度，流量偏差易造成显影不足或过显问题，最终导致图形线宽不均、轮廓失真。

• 科研级实验场景下，显影工艺的参数可重复性是实验数据可信的基础，持续稳定的流量测控是保障实验结果可复现的重要前提。

二、德国 MIB 超声波流量计：适配匀胶与显影工艺的测控方案

针对半导体匀胶、显影设备的小流量、高精度、洁净度要求，北光仪表代理的德国 MIB 超声波流量计，为科研级与量产级设备提供了可靠的流量测控解决方案，核心优势如下：

1. 高精度稳定测量，保障工艺参数一致性

MIB 超声波流量计具备优异的测量精度与高重复性能，可精准管控光刻胶、清洗溶剂、显影液的瞬时流量与累计流量，确保每一片晶圆的滴胶量、边胶清洗溶剂用量、显影液供给量稳定一致，从源头降低片间工艺差异，适配半导体科研设备的严苛精度要求。

2. 非接触式测量，适配洁净工艺与多介质需求

采用超声波测量原理，测量元件不与工艺介质直接接触，既不会产生压损影响流体输送稳定性，也可有效规避金属离子析出、颗粒脱落等污染风险；同时可适配光刻胶、PGMEA、显影液等多种化学介质，耐腐蚀性能优异，充分适配半导体洁净工艺要求。

3. 快速响应宽量程，覆盖多工况测量需求

支持宽量程比测量，可覆盖从匀胶微量滴胶到显影批量喷淋的多场景流量需求；同时具备快速响应能力，适配匀胶转速切换、显影工序启停等动态工况，保证短周期工艺的流量数据实时精准。

4. 紧凑化结构，适配科研设备集成需求

产品结构紧凑，安装维护便捷，可灵活集成于实验室小型科研机台的有限空间内，无需对设备管路进行大规模改造，良好适配科研设备厂商的集成开发需求。

三、深耕光刻湿法工艺场景，携手设备厂商共促发展

作为德国 MIB 在中国区的授权合作伙伴，北京空港北光仪表不仅提供稳定可靠的流量测量产品，更依托自身三十余年工业测控服务经验，为半导体设备厂商、科研及制造单位提供本土化技术支持，可根据匀胶、显影等不同工艺的介质、管径、精度要求，提供针对性的流体测控方案。

未来，我们将持续聚焦半导体制程的精密测控需求，携手更多国产设备厂商，以可靠的流量测量产品与本土化技术服务，为半导体设备国产化与工艺升级提供支持。

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